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晶瑞表示,經公司多方協商,順利購得ASML XT1900 Gi型光刻機一台。該設備於2021年1月1 9日運抵蘇州並成功搬入公司高端光刻膠研發實驗室。下一步,公司將積極組織相關資源,盡快完成設備的安裝調試工作。
從晶瑞公司的信息來看,公司採購的光刻機設備為ASML XT 1900 Gi型ArF浸入式光刻機,可用於研發最高分辨率達28nm的高端光刻膠。
此外,28nm級別的光刻機在ASML公司中並不算多先進的型號了,官網上列出的沉浸式光刻機最舊的型號也是XT1965CI了,可用於20nm以下的制程。不過晶瑞公司購買的這台光刻機花了1102.5萬美元,約合港幣8000多萬。
本次購買的ASML光刻機設備若研發工作進展順利,將有助於公司將光刻膠產品序列實現到ArF 光刻膠的跨越,並最終實現應用於12寸晶片製造的戰略佈局。