不用EUV光刻機中芯國際一樣可做到5nm製程

EUV光刻機是先進製程的關鍵，不過也不是說沒有EUV工藝就完全不能做了，台積電前技術研發副總林本堅日前談到了中芯國際的技術發展，指出中芯國際不一定需要用到EUV光刻機，現有設備就可以做到5nm製程。

林本堅是芯片光刻技術方面的高手，在IBM公司工作了22年，主要從事光刻技術研究，2000年被蔣尚義招募到台積電，2002年提出沉浸式光刻技術，帶領台積電在芯片製造上翻身，目前該技術依然是ASML光刻機中的核心技術。

在不適用EUV光刻機的情況下，台積電就做到了量產7nm工藝，量產5nm也是可行的，不過製造成本很高，多重光刻難度很大，只有在不得已的情況下才會這樣做。

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