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這種與IBM合作研發的新式卡帶,刷新2010年富士軟片與IBM聯手寫下的35 TB儲存紀錄,Sony將在本週於德國德勒斯登舉行的歐洲國際磁學會議上,發表並解釋這種新型卡帶。這種超級卡帶運用將氬離子濺射到聚合物薄膜的「Sputtering Deposition」技術,大幅提升儲存能力。透過這種技術,可在薄膜上製造出光滑表面的軟鐵磁層,容納超細晶體粒子,由於晶體粒子超細,且形式統一,在磁層上的分布均勻,可大幅提高卡帶的儲存密度,從而增加容量。這種「Sputtering Deposition」技術製造出的新式卡帶,儲存容量大約是目前卡帶的74倍!
Facebook與Google等科技巨擘現在都使用數據中心來儲存使用者上傳的照片或電子郵件等,未來這些雲端服務借助Sony這種新型卡帶,同樣空間可儲存的容量將大幅提高,對儲存更多資料將大有助益。此外,相較於使用硬碟儲存需要耗費大量電力的數據中心,使用磁帶花費較低,也更節能。